您的當前位置:首頁 > 休閑 > 成本降一半!佳能纳米压印技术对抗ASML,已可生产2nm半导体 正文
時間:2025-08-02 08:42:47 來源:網絡整理 編輯:休閑
根据日本媒体的报道,佳能面向半导体电路光刻工序推出了搭载自主研发的「纳米压印」技术设备,这套设备可以大幅降低成本以及耗电量,备受半导体厂商的期待,而且目前可以生产为2nm的产品。根据佳能半导体机器业务
根據日本媒體的報道,佳能面向半導體電路光刻工序推出了搭載自主研發的「納米壓印」技術設備,這套設備可以大幅降低成本以及耗電量,備受半導體廠商的期待,而且目前可以生產為2nm的產品。
根據佳能半導體機器業務部長巖本和德的介紹,納米壓印就是把半導體電路圖的掩膜壓印到晶圓上,在晶圓上只壓印一次,就可以在合適的位置形成復雜的二維或者三維電路,如果改進掩膜,甚至可以生產2nm的產品。
納米壓印的特點是設備構造簡單,相較于傳統刻燒電路的方法,納米壓印的耗電量可降至1/10,設備價格也會便宜很多。據估算,納米壓印1次光刻工序需要的成本可以降至傳統光刻設備的一半。
巖本和德還介紹,在2017年時,佳能便與鎧俠、大日本印刷合作開發,納米壓印技術的量產用途的實用化已經有眉目,可以面向客戶銷售,另外納米壓印技術目前全球只有佳能在做,進入門檻也很高。
2000年左右,日本與尼康曾占據了世界光刻設備很大一部分市場,然而隨著荷蘭SAML開發出EUV光刻設備,市場隨即被洗牌,EUV成為尖端半導體光刻的主流,佳能也流失了大部分市場。
如今佳能十年磨一劍推出納米壓印技術,有一種要重新奪回光刻市場的架勢。不過目前ASML也已經向英特爾交付首臺2nm EUV光刻機,短時間能佳能想要依靠納米壓印技術對抗ASML,或許希望并不大。
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