LG Innotek申请OLED新专利,可减少OLED面板污渍与光干扰
作者:知識(shí) 來源:時(shí)尚 瀏覽: 【大 中 小】 發(fā)布時(shí)間:2025-08-02 09:16:23 評(píng)論數(shù):
近日,來自etnews外媒報(bào)道的消息,LG Innotek申請(qǐng)了一項(xiàng)通過均勻沉積OLED發(fā)光材料從而實(shí)現(xiàn)發(fā)光效率的專利,同時(shí)該項(xiàng)專利還可以最大程度上減少以往OLED面板上的污漬以及光干擾問題。
據(jù)了解,LG Innotek該項(xiàng)專利主要在于改變FMM(全稱Fine Metal Mask精細(xì)金屬掩模結(jié)構(gòu))結(jié)構(gòu),F(xiàn)MM可以讓OLED有機(jī)材料精確沉積在顯示像素的元件,需要鉆出數(shù)千萬個(gè)直徑為 20 至 30 微米 (?) 的孔,正因?yàn)槿绱耍現(xiàn)MM 行業(yè)正專注于鉆探精確的有機(jī)滲透孔。
LG Innotek OLED Mask
而LG Innotek在研究后發(fā)現(xiàn),該種方法會(huì)降低有機(jī)材料沉積的效率,主要是由于FMM厚度比較薄,容易發(fā)生扭曲,從而會(huì)在OLED面板上形成污點(diǎn)或者光干涉引起的“波紋”,進(jìn)而影響屏幕觀感。基于此,LG Innotek提出通過改變FMM結(jié)構(gòu)來提升均勻性,通過不同尺寸的孔交叉形成一個(gè)孔,最大限度地減少相鄰孔之間的偏差,可減少FMM扭曲,有望可以延長(zhǎng)OLED的使用壽命。